Японские специалисты разработали новый EUV литографский сканер для производства чипов. По их утверждениям, данный сканер является более дешевым и эффективным по сравнению с оборудованием компании ASML. ASML это основной поставщик литографских EUV сканеров в мире. Серийное производство этой технологии может привести к снижению цен на процессоры и другие чипы.Инженеры из Окинавского института науки и технологий (OIST) создали литографский сканер, который включает значительно меньше компонентов, чем сканеры ASML. Это позволяет снизить стоимость и сделать производство чипов более экономичным.EUV сканеры используются для производства современных чипов с технологическими процессами 3 и 4 нанометра. Компания ASML контролирует более 90% рынка EUV сканеров, что делает их практически монополистом в этой области.
Преимущества новой технологии
Текущие сканеры ASML используют систему из шести зеркал для оптической проекции. Японские ученые предложили уменьшить количество зеркал до двух, сохранив функциональность, что приводит к снижению затрат. Команда OIST разработала совершенно новую конструкцию EUV сканера. Если эта машина поступит в массовое производство, то она может изменить полупроводниковую индустрию. Так как больше не потребуется тратить десятки миллионов долларов на оборудование ASML при отсутствии конкурентов.
Энергетическая эффективность и надежность
Сканеры с двумя зеркалами также демонстрируют значительно меньшую потребность в энергии — всего 20 Вт для источника EUV света, что приводит к общей потребляемой мощности ниже 100 кВт. Для сравнения, традиционные EUV системы требуют более 1 МВт. Улучшенная конструкция повышает надежность устройства, так как меньшее количество компонентов снижает вероятность поломок. Простота конструкции также упрощает обслуживание.
Готовность к внедрению
Японские инженеры уже протестировали производительность новой системы с помощью специального программного обеспечения. Результаты показывают, что двуогледальный EUV сканер подходит для современного производства полупроводников. Хотя ASML до сих пор доминирует на рынке EUV сканеров, ученые из OIST подали заявку на патент своей технологии, что указывает на близость к коммерциализации. OIST рассматривает свою разработку как важный шаг к решению глобальных проблем, таких как высокие затраты на производство чипов и потребление энергии, что негативно сказывается на окружающей среде.
