Nvidia и Synopsys, два ведущих игрока в области технологий, успешно реализовали проект по интеграции искусственного интеллекта (ИИ) в процесс литографической подготовки для производства полупроводников. Этот прорыв не только подчеркивает растущее значение ИИ в разработке и производстве чипов, но и открывает новые горизонты в ускорении и оптимизации производственных процессов.
Использование ИИ оказалось крайне эффективным не только в начальных фазах разработки чипов и соответствующего программного обеспечения, но и в более поздних этапах, таких как создание фотошаблонов и внедрение корректирующих действий для улучшения технологических процессов. Сотрудничество Nvidia и Synopsys значительно ускорило разработку и внедрение этих инноваций, демонстрируя потенциал ИИ в оптимизации сложных технологических задач.
Согласно пресс-релизу Nvidia, эта синергия между двумя компаниями привела к значительному улучшению программной платформы cuLitho, которая уже эффективно использовала GPU для ускорения процесса разработки фотомасок. Использование графических процессоров вместо традиционных центральных обрабатывающих устройств позволяет сократить время на разработку и снизить энергопотребление, что критически важно для современного производства чипов.
TSMC, ведущий контрактный производитель полупроводников, уже внедряет решения на базе Nvidia cuLitho, что говорит о реальной практической ценности этих разработок. Synopsys также модернизирует свое ПО Proteus, переходя на платформу Nvidia cuLitho для ускорения расчетов оптической коррекции, достигая впечатляющих результатов в ускорении процессов проектирования.
Этот случай иллюстрирует, как тесное взаимодействие между компаниями, работающими в сфере ИИ и производстве чипов, может привести к значительным прорывам, улучшая не только эффективность производства, но и в целом способствуя технологическому прогрессу в индустрии.
